废物回收装置（废品处理）

有哪些常用的废气回收处理装置？

废气处理设备是一种环保设备，主要利用不同的技术回收或去除废气中的有害成分，以保护环境和净化空气。设备吸收法是利用低挥发性或不挥发性溶剂吸收VOCs，然后利用VOCs与吸收剂物理性质的差异进行分离。含VOCs的气体从吸收塔底部进入吸收塔，在上升过程中与来自塔顶的吸收剂逆流接触，净化后的气体从塔顶排出。吸收VOCs的吸收剂通过热交换器，进入汽提塔的顶部，并在高于吸收温度的温度或低于吸收压力的压力下解吸。解吸的吸收剂被溶剂冷凝器冷凝，然后返回吸收塔。解吸的挥发性有机化合物气体通过冷凝器和气液分离器，然后作为纯挥发性有机化合物气体离开汽提塔，并被回收。该工艺适用于VOCs浓度高、温度低的气体净化，其他情况需要相应的工艺调整。当活性炭吸附装置处理含有多孔固体物质的流体混合物时，流体中的某种组分或某些组分可以吸附在表面上并富集在其上。这种现象叫做吸附。处理废气时，吸附的对象是气态污染物，气固吸附。被吸附的气体成分称为吸附剂，多孔固体物质称为吸附剂。吸附质吸附在固体表面后，一部分被吸附的吸附质可以从吸附质表面脱离，吸附质是附着的。但当吸附进行一段时间后，由于表面吸附质的浓缩，其吸附能力明显降低，需要进行吸附净化。这时就需要采取一定的措施将吸附在吸附剂上的吸附质解吸出来，以提高吸附能力。这个过程被称为吸附剂再生。因此，在实际的吸附工程中，去除废气中的污染物，回收废气中的有用成分，是吸附-再生-再吸附的循环过程。催化燃烧设备燃烧法对于处理高浓度Voc和恶臭化合物非常有效。它的原理是利用过量的空气燃烧这些杂质，大部分生成二氧化碳和水蒸气，可以排放到大气中。但处理含氯和硫的有机化合物时，燃烧会产生HCl或SO2，需要对燃烧后的气体进行进一步处理。低温设备的等离子体是电离状态的气体，英文名为Plasma。1927年美国科学缪尔因研究低压下汞蒸气中的放电现象而命名。等离子体由大量的原子、中性原子、受激原子、光子和自由基组成，但电子和正离子的电荷数必须是电中性的，这就是“等离子体”的意义。等离子体在导电、受电磁影响等很多方面都不同于固体、液体、气体，所以有人称之为物质的第四态。根据状态、温度和离子密度，等离子体通常可分为高温等离子体和低温等离子体(包子和冷等离子体)。其中高温等离子体的电离度接近1，各种粒子处于热力学平衡，温度几乎相同。它主要用于受控热核反应的研究。但低温等离子体是一种非平衡态，各种粒子的温度并不相同。电子温度(Te)离子温度(Ti)可达104K以上，而离子和中性粒子的温度可低至300 ~ 500 K，一般气体放电体属于低温等离子体。光催化与生物净化设备光催化是常温下的深度反应技术。光催化可以在常温下将水、空气、土壤中的有机污染物完全氧化成无毒无害的产物，而传统的高温焚烧技术需要极高的温度才能破坏污染物，即使常规的催化氧化方法也需要几百度的高温。理论上，只要半导体吸收的光能不小于它的带隙能量，就足以刺激电子和空穴的产生

这些催化剂对于特定的反应有其突出的优势，在具体的研究中可以根据需要进行选择。例如，CdS半导体的带隙能量小，与太阳光谱中的近紫外波段具有良好的匹配性能，可以很好地利用自然光能量，但容易发生光腐蚀，使用寿命有限。相对而言，二氧化钛具有更好的综合性能，是应用和研究最广泛的单一复合光催化剂。望采纳！

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